電鍍設備的工藝要求
2015-07-21
電鍍設備工藝要求
1. 鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應有良好的結合力。
2. 鍍層應結晶細致、平整、厚度均勻。
3. 鍍層應具有規定的厚度和盡可能少的孔隙。
4. 鍍層應具有規定的各項指標，如光亮度、硬度、導電性等。
5. 電鍍時間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
6.環境溫度為-10℃～60℃。
7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。
8.水處理設備最大工作噪聲應不大於80dB(A)。
9.相對濕度(RH)應不大於95%。
10.原水COD含量為100mg/L～150000mg/L
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核心技術為全自動龍門、單臂滾掛鍍生產線、全自動連續性卷對卷電鍍生產線，全自動氧化線，全自動清洗機，並從事相關的純水生產係統，廢氣處理係統，廢水處理係統及過濾機等相關配套設備的生產製造。
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